ইলেক্ট্রোপ্লেটিং এর নীতি
ইলেক্ট্রোপ্লেটিং এমন একটি প্রযুক্তি যা পৃষ্ঠের অংশগুলি প্রক্রিয়া করার জন্য তড়িৎ বিশ্লেষণ ব্যবহার করে। ইলেক্ট্রোপ্লেটিং চলাকালীন, ইলেক্ট্রোপ্লেটিং দ্রবণের অংশটি নেতিবাচকভাবে চার্জ করা হয় এবং ধাতব আয়নগুলি ডিসি পাওয়ার সাপ্লাইয়ের ক্রিয়াকলাপের অধীনে অংশের পৃষ্ঠে জমা হয় যাতে একটি অভিন্ন এবং ঘন ধাতব স্তর তৈরি হয়।
1. ইলেক্ট্রোপ্লেটিং এর জন্য প্রয়োজনীয় শর্ত: এক্সটার্নাল ডিসি পাওয়ার সাপ্লাই, ইলেক্ট্রোপ্লেটিং সলিউশন, ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ওয়ার্কপিস এবং অ্যানোডাইজিং বাথ।
2. ইলেক্ট্রোলাইসিসের ব্যবহার: সাজসজ্জা, জারা প্রতিরোধের এবং পরিধান প্রতিরোধের মতো একাধিক প্রযুক্তিগত ফাংশন অর্জন করতে অংশগুলির চেহারা এবং শারীরিক ও রাসায়নিক ফাংশন পরিবর্তন করা।
3. ইলেক্ট্রোলাইসিস প্রক্রিয়ার স্ফটিককরণ: তড়িৎ বিশ্লেষণ প্রক্রিয়ায় ধাতব আয়ন বা বর্ণগুলি ক্যাথোড পুনরুদ্ধারের সময় ধাতব আবরণ জমা করে, যাকে ইলেক্ট্রোলাইটিক ক্রিস্টাল বলে।
ইলেক্ট্রোলাইটিক স্ফটিক হল এক ধরনের ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল বিক্রিয়া প্রক্রিয়া, এবং ক্যাথোড বিন্দু নির্ধারণের মাধ্যমে ধাতব আয়ন পুনরুদ্ধার করা যেতে পারে। শুধুমাত্র যখন ক্যাথোড পটেনশিয়াল ভারসাম্যের অবস্থা লঙ্ঘন করে এবং একটি নির্দিষ্ট অতিরিক্ত সম্ভাবনা দেখা দেয়, তখনই ক্যাথোডে ধাতব স্ফটিক জমা হতে পারে।
4. মেটাল ইলেক্ট্রোপ্লেটিং একটি অগোছালো প্রক্রিয়া, এতে সাধারণত বেশ কয়েকটি ধারাবাহিক বা সমস্ত ইন্টারফেস প্রতিক্রিয়া পদক্ষেপ থাকে:
উ: দ্রবণে থাকা ধাতব আয়নগুলি বৈদ্যুতিক স্থানান্তর, পরিচলন, বিচ্ছুরণ এবং অন্যান্য পদ্ধতির মাধ্যমে ক্যাথোড পৃষ্ঠের আশেপাশে পৌঁছায়।
B. পুনরুদ্ধারের আগে, ক্যাথোডের কাছাকাছি বা বাইরে রাসায়নিক রূপান্তর ঘটে।
C. ধাতব আয়ন ক্যাথোড পৃষ্ঠ থেকে ইলেকট্রন প্রাপ্ত করে এবং তারপর ধাতব পরমাণুতে পুনরুত্থিত হয়।
D. ধাতব পরমাণু পৃষ্ঠ বরাবর বৃদ্ধি বিন্দুতে ছড়িয়ে পড়ে গুণমানের বৃদ্ধিতে প্রবেশ করতে বা নিউক্লিয়াস গঠনের জন্য অন্যান্য কণার সাথে মিলিত হয় এবং স্ফটিকে পরিণত হয়।